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一、簡要介紹
晶體生長爐可用于多晶錠的定向凝固，通過控制溫度梯度、物質傳輸速率及生長參數，實現單晶的高效、高質量生長，適用于碳化硅、單晶硅等材料的制備。
該設備主要由設備主體、爐管法蘭組件、控制面板、感應線圈移動機構、物料升降機構、高真空系統、水冷機等組成。
該設備設計溫度為1500℃，PID 程序控溫（自整定調節 30段可調程序控溫）；
感應線圈可升降可更換圈數，移動行程：200mm，移動速度：1-3mm/h；
內含載物坩堝，坩堝配有升降機構，最大行程：200mm，有熱電偶實時測溫；
二、技術參數
型號 | LFT1600C20VIM VT |
設備重量 | 220KG |
外型尺寸（長*深*高） | 725*1125*1790mm |
輸出功率 | 20KW |
震蕩頻率 | 200-500KHZ |
加熱電流 | 2.8-28A |
輸入電壓 | 三相 380V 50HZ |
負載持續率 | 100%（24小時連續工作） |
控溫方式 | PID控制 |
測溫方式 | 熱電偶測溫（可調節測溫距離） |
設計溫度 | 1500℃ |
爐管尺寸 | Φ80*500mm |
感應線圈 | DN80,1/2/3匝 |
線圈移動行程 | 200mm |
線圈移動速度 | 1-3mm/h |
樣品升降行程 | 200mm |
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