CVD石墨烯制備的制作過程
我們知道，石墨烯發現源于初是用透明膠帶從石墨晶體上“粘”出一片石墨烯的，一提起石墨。*，直接剝離法制備石墨烯的產量低，工序復雜，不適宜實際的工業需求。隨著化學氣相沉積法的出現，石墨烯的工業化生產變成了可能。
CVD石墨烯制備的基本過程是：把基底金屬箔片放入爐中，通入氫氣和氬氣或者氮氣保護加熱至1000℃左右，穩定溫度，保持20min左右；然后停止通入保護氣體，改通入碳源(如甲烷)氣體，大約30min，反應完成；切斷電源，關閉甲烷氣體，再通入保護氣體排凈甲烷氣體，在保護氣體的環境下直至管子冷卻到室溫，取出金屬箔片，得到金屬箔片上的石墨烯。
真空泵：如果選擇管式爐，尤其是內徑不超過60mm時，可以不用先抽真空，直接通氣氛即可，但事實上實驗人員為了安全性考慮，會加配真空泵，先抽真空再通惰性氣氛，反復幾次，用于除去空氣或氧氣。CVD管式爐一般配置普通的機械泵(10-0.01mbar)即可，如果有經費或者特別的研究需求，要求達到更高真空度(0.00001mbar)，可以再配置分子泵，但對于制備石墨烯而言，普通機械泵足矣。
理想的石墨烯轉移技術應具有如下特點:
(1)保證石墨烯在轉移后結構完整、無破損；
(2)對石墨烯無污染(包括摻雜)；
(3)工藝穩定、可靠，并具有高的適用性。對于僅有原子級或者數納米厚度的石墨烯而言，由于其宏觀強度低，轉移過程中極易破損，因此與初始基體的無損分離是轉移過程所必須解決的首要問題。
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